外延是资料科学中的一个重要现象，它描绘了一种晶体资料在具有准确晶体注册的衬底上有序成长的状况。
在掉落的六方二硫化钼(MoS2)衬底之间进行了纳米厚金(Au)纳米颗粒的退火，其基面取向不同，彼此扭转角在0°到60°之间。透射电镜研讨标明，当双分子层的扭转角较小(~7°)时，Au在二硫化钼的顶部和底部中心摆放。关于较大的扭转角，Au与底层二硫化钼的取向误差较小，且与双层二硫化钼的扭转角呈近似正弦改变。四维扫描透射电镜剖析进一步提醒了与歪曲外延相关的Au纳米片的周期性应变改变(±0.5%)，这与两个MoS2歪曲层的莫尔记载相一致。
外延已用于许多资料的组成和制作，包含平面半导体异质结构、线性和核壳纳米晶体和纳米线，运用包含晶体管、发光二极管、激光器和量子器材。近年来二维范德瓦尔斯(vdW)资料的开展现已将外延的规模扩展到vdW外延、长途外延和受限外延。到目前为止，研讨主要是根据将一个晶体外延成长到一个衬底上或衬底内的结构。
Au和MoS2的歪曲外延结构的发现为运用先进的电子显微镜研讨二维资料的结构和功用供给了可能性。TEM莫尔条纹图像是参加晶体原子匹配和不匹配的表征。这种周期性与两种资料的原子匹配直接相关，原子匹配的改变可能会影响复合资料的物理性质，如Au和MoS2的能带结构、电子和光学性质[等离子体激子-激子多激子]等。此外，歪曲外延意味着可以正常的运用堆叠双层二维资料的范德华距离作为纳米反应器来约束资料的成长并调理晶体形状、取向和晶格应变，这标明双层取向可当作操控被封装原子结构和功能的附加参数。
该研讨探究了两个歪曲衬底之间的外延机制，或“歪曲外延”，其间两个衬底与成长的晶体脱皮层彼此作用并影响其结晶学定位。这种办法答应将两个基板的相对取向用作结构操控参数。
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